Ультразвуковая ванна является незаменимым приспособлением для УЗ очистки и тестирования.

При ультразвуковой очистке с помощью высокочастотных волн, которые генерирует преобразователь, встроенный в очистительный резервуар под поверхностью очищающей жидкости, достигается возникновение под загрязнениями микроскопических вакуумных дыр, которые затем разрываются.

Воздушные пузырьки в растворе постоянно движутся и попадают, за счет высокой проникающей способности жидкости-очистителя, между очищаемой поверхностью и загрязнениями. Пузырьки прилипают к загрязнениям и отрывают частицы за счет разрывов вакуумных дыр. Давление в этом процессе может составлять порядка 1000 бар, при этом поверхность не повреждается.

Результатом является отличная очистка даже в труднодоступных местах.